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新标题： Intel以3.83亿美元价格获取全球第二台High NA EUV光刻机，加速2nm以下芯片量产

正文：

在最近的财务报告电话会议中，Intel CEO对外宣布，公司已成功取得全球第二台价值高达3.83亿美元的High NA EUV光刻机。这款顶尖级别的芯片制造设备，以其卓越的8纳米分辨率，显著提升了芯片的晶体管密度和性能，成为实现2纳米以下先进制程大规模生产的关键工具。

帕特·基辛格透露，这台新设备即将入驻位于美国俄勒冈州的Intel晶圆厂，预计能支持公司推出更为强大的计算机芯片。在此之前，Intel已在去年12月接收了全球首台High NA EUV光刻机，并顺利完成在俄勒冈州工厂的安装工作。

随着第二台设备的加入，Intel在高端芯片制造领域的竞争力将进一步增强。有预测指出，借助这一技术优势，Intel有望在2025年实现对台积电等主要竞争对手的超越。

High NA EUV光刻机的引入，是Intel“IDM 2.0”战略的重要组成部分。此战略旨在通过持续的技术创新与工艺优化，重塑公司在全球半导体行业的领先地位。根据规划，Intel计划在2027年前将High NA EUV技术应用于商业生产，并于2030年前实现其代工业务的盈亏平衡。

注释： “IDM 2.0”代表Intel在21世纪的集成设备制造商策略升级版，旨在强化内部研发与制造能力，提升市场竞争力。